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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8英尺晶圆生产的线配备的超净水系统的,整天产生含硅废液150吨。废液中虽无高价属,但硅分子量高易积垢,且内阻率需可达18MΩ·cm才会使用。原本有外工院艺不能够满足新颁布法律的《电子器件行业水的污染源尾气进行排放标》(GB39731-2020)尤为尾气进行排放允许值。 废液组成成分优势 关键被污渍 :电解质溶液硅(200-300mg/L)、颗料硅(粒度分布0.1-1μm) 特异规定要求 :TOC<10μg/L,硼含铁<5μg/L 土质基本特征 :低水的电导率(<50μS/cm)但硅有机化合物特性很复杂 进行处理生产工艺标准流程 企业创新选用"梯级膜提取+电去正离子"搭档技术: 微滤预操作 :1μm瓷质膜阻止大粒状硅,通量能维持80LMH 铁离子交互树酯 :D201大孔光敏树脂使用性吸咐硅酸碳原子 二次元RO机系统 :1段回收利用率60%,第二个段利用高脱硼膜电气元件 EDI电去正离子 :电流值密度计算公式2A/m²,连续的还原多余阴阳离子 分光光度计灭菌 :254nm紫外线的线极量40mJ/cm² 枝术成效 开放专业级阻硅剂(有机的胺类包覆物),减缓膜破坏时间是3倍 EDI传感器全新流道设计,硅的还原率增强至99.8% 线上硅介绍仪(检测的位置0.1-500μg/L)保证有目的掌握 启动初步成效 经3、方检测工具: 总硅从280mg/L降到0.05mg/L 硼含磷量从8μg/L降下来0.3μg/L 软件系统二手回提取率从原40%升级至68% 膜变更周期公式增长至5年,年使用利润削减35%

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