该晶圆制作业厂座落华东沿海地区沿海地区，核心的生产方式8英尺半导体技术晶圆，单日化工废水排卸量约800吨。鉴于的生产方式方式中使用的过量氢氧化钠去晶圆蚀刻，造成化工废硫酸铜溶液氟化物氧浓度高达模型200-300mg/L，远超的国家排卸原则（10mg/L这）。 生产废水的成分及主要来源 电镀废水大部分存在五个关键点： 晶圆蚀刻制作工序 ：含高密度氟化物（HF）、硝酸铵及一些天价属 化学上的自动化设备打磨抛光（CMP）生活污水 ：含纳米技术级硅颗粒肥料、充分络合剂 生产设备的清洗化工废水 ：含异丙醇、氧化还原电位等充分物 办理加工过程方案 选择"物理化学石雕文化积累+混疑石雕文化积累+程度过滤器"三級办理整体： 4级处置 ：污泥脱水氯化钙和氢氧化反应钙，产生氟化钙沉淀自己，氟化物剔除率达85% 一级处理 ：增添PAC（汇聚氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），我们要除氢氧化铁态被污染 三阶段处置 ：经过多媒介滤出器和几丁质酶炭溶解，出水量氟化物盐浓度不稳定性在8mg/L接下来 要点主设备收录：pH一键转换系统软件、斜管沉淀物池、板框压滤设备（飞灰缺水）。 终究使用效果 内容自动运行六年监控数据资料体现： 氟化物均值浓度值：7.2mg/L（低过的国家行业标准的） COD出掉率：92% 污水含水分率：≤65% 年收购 氟化钙副新产品约150吨，保证资源共享化回收利用